Skip to main content
EN
ÍS
Leita
Samskiptagátt HÍ
Finna starfsfólk
Vefpóstur
Ugla
Þjónusta
Háskólinn
Fræðasvið og deildir
Félagsvísindasvið
Heilbrigðisvísindasvið
Hugvísindasvið
Menntavísindasvið
Verkfræði- og náttúruvísindasvið
Deildir frá A-Ö
Stjórnskipulag
Rektor
Aðstoðarrektorar
Skrifstofa rektors
Skipurit
Háskólaráð
Nefndir háskólaráðs
Háskólaþing
Lög og reglur
Innri endurskoðun
Sameiginleg stjórnsýsla
Alþjóðasvið
Fjármálasvið
Framkvæmda- og tæknisvið
Kennslusvið
Markaðs- og samskiptasvið
Mannauðssvið
Upplýsingatæknisvið
Vísinda- og nýsköpunarsvið
Mannauður
Laus störf
Erlent starfsfólk
Starfsfólk
Að vinna í HÍ
Starfsmannastefna
Stefna og markmið HÍ
Stefna Háskóla Íslands
Gildi Háskóla Íslands
Önnur stefnuskjöl og áætlanir
Jafnrétti í HÍ
Sjálfbærni í HÍ
Kynningarefni
Um HÍ
Fréttir
HÍ í tölum
Kynningarbæklingar
Myndasöfn
Tímarit HÍ
Árbók HÍ
Miðlun
Leit að fræðimönnum í HÍ
Fyrir fjölmiðla
Hönnunarstaðall
Vefur HÍ
Húsnæði og aðstaða
Háskólabyggingar
Útleiga á stofum
Húsreglur
Listir
Háskólatónleikar
Listasafn
Um skólann
Gæðamál
Ársreikningar
Sjálfbærni og umhverfi
Saga
Eyðublöð
Samstarf
Háskólasamstarf
Siðanefnd háskólanna um vísindarannsóknir
Samstarfsnefnd háskólastigsins
Samstarf opinberu háskólanna
Innlent samstarf
Innviðir á vegvísi
Samstarf og samningar
Alþjóðlegt samstarf
Alþjóðasvið
Samstarfsskólar um nemendaskipti
Aurora
Um Aurora
Fyrir nemendur
Fyrir starfsfólk
Aurora tækifæri
Tengsl við atvinnulífið
Vísindagarðar
Atvinnumiðlun stúdenta - Tengslatorg
Samfélagsverkefni
Samfélagsverkefni HÍ
Samfélagsverkefni nemenda
Hlaðvörp tengd HÍ
Háskólinn og heimsmarkmiðin
Sprettur
Háskólavinir
Háskólavinir
Fyrrverandi starfsfólk
Vísindastarf
Vísindi og nýsköpun
Nýsköpun
Framtíð nýsköpunar
Sprotafyrirtæki HÍ
Stuðningur
Vísinda- og nýsköpunarsvið
Miðstöð framhaldsnáms
Styrkir og sjóðir við HÍ
Rannsóknastofnanir og setur
Rannsóknastofnanir
Rannsóknasetur
Rannsóknasamstarf
ROCS rannsóknastofnunin
Stýrihópur HÍ og LSH
COVID rannsóknir og fræði
Nám
Námsframboð
Leita að námi
Grunnnám A-Ö
Fjarnám
Framhaldsnám A-Ö
Doktorsnám A-Ö
Þverfræðilegt nám
Annað nám
Skiptinám
Starfsþjálfun erlendis
Endurmenntun HÍ
Gestanám - opinberir háskólar
Stutt námsdvöl erlendis
Sækja um nám
Velkomin í HÍ
Umsóknarsíða
Staða umsóknar
Fylgigögn með umsókn
Umsókn um grunnnám
Umsókn um framhaldsnám
Námsupplýsingar
Kennsluskrá
Inntökuskilyrði
Skrásetningargjöld
Mat á fyrra námi
Einingamat og einkunnir
Skipulag náms
Kennslualmanak
Fjarnám
Próf
Brautskráning
Nýnemar
Stundatöflur
Nýnemar
Aðgangur að innri vef og tölvukerfi
Félagslíf
Nýnemakynningar
Stuðningur
Nemendaráðgjöf
Nemendaskrá - Umsóknir
Þjónustuborð
Stúdentaráð
Þjónusta
Bókasöfn og bóksala
Tölvuþjónusta
Ritver
Félagsstofnun stúdenta
Tungumálamiðstöð
Húsnæði og aðstaða
Háskólabyggingar
Lesrými og tölvuver
Íþróttahús
Lífið í HÍ
Matsala og kaffistofur
Stúdentaíbúðir
Leikskólar
Samgöngur
Jón Tómas Guðmundsson - Professor
–
School of Engineering and Natural Sciences
Jón Tómas Guðmundsson
Íslenska
Professor
Location
VR-3 / V03-213
Phone
525 - 4946
Email
tumi [at] hi.is
Unit
Faculty of Physical Sciences
Website
http://www.raunvis.hi.is/~tumi
ORCID site
https://orcid.org/0000-0002-8153-3209
Research portal – Jón Tómas Guðmundsson
Courses 2024 - 2025
EÐL404M - Atomic Physics and Optics
EÐL505F - Course for the Ph.D.-degree in Physics
Education
1996
,
Ph.D.
,
University of California, Berkeley
,
Nuclear Engineering
1991
,
MS
,
University of Iceland
,
Physics
1989
,
C.S.
,
University of Iceland
,
Electrical Engineering
Professional Experience
2013 -
,
Professor of Physics,
University of Iceland
2010 -
2013,
Professor in Electrical and Computer Engineering,
University of Michigan - Shanghai Jiatong University Joint Institute
2003 -
2010,
Professor in Electrical and Computer Engineering,
Faculty of Engineering University of Iceland
2001 -
2003,
Associate Professor in Electrical and Computer Engineering,
Faculty of Engineering University of Iceland
1997 -
2000,
Assistant Research Scientist,
Physics Division Science Institute
2000 -
2000,
Associate Research Scientist,
Physics Division Science Institute University of Iceland
Published works
2024
On working gas rarefaction in high power impulse magnetron sputtering
Plasma Sources Science and Technology
On the influence of electrode surfaces on the plasma chemistry of a capacitive chlorine discharge
Plasma Sources Science and Technology
High power impulse magnetron sputtering of a zirconium target
Journal of Vacuum Science & Technology A
2023
Epitaxial growth and characterization of (001) [NiFe/M]20 (M = Cu, CuPt and Pt) superlattices
Surfaces and Interfaces
Field reversal in low pressure, unmagnetized radio frequency capacitively coupled argon plasma discharges
Applied Physics Letters
Target ion and neutral spread in high power impulse magnetron sputtering
Journal of Vacuum Science & Technology A
Insights into the copper HiPIMS discharge: deposition rate and ionised flux fraction
Plasma Sources Science and Technology
High power impulse magnetron sputtering of tungsten: a comparison of experimental and modelling results
Plasma Sources Science and Technology
Influence of the magnetic field on the extension of the ionization region in high power impulse magnetron sputtering discharges
Plasma Sources Science and Technology
Angular distribution of titanium ions and neutrals in high-power impulse magnetron sputtering discharges
Journal of Vacuum Science & Technology A
On the importance of excited state species in low pressure capacitively coupled plasma argon discharges
Plasma Sources Science and Technology
2022
Influence of the magnetic field on the discharge physics of a high power impulse magnetron sputtering discharge
Journal of Physics D: Applied Physics
Ionization region model of high power impulse magnetron sputtering of copper
Surface and Coatings Technology
Particle-in-Cell Simulations With Fluid Metastable Atoms in Capacitive Argon Discharges: Electron Elastic Scattering and Plasma Density Profile Transition
IEEE Transactions on Plasma Science
On the population density of the argon excited levels in a high power impulse magnetron sputtering discharge
Physics of Plasmas
Foundations of physical vapor deposition with plasma assistance
Plasma Sources Science and Technology
Operating modes and target erosion in high power impulse magnetron sputtering
Journal of Vacuum Science & Technology A
Modeling of high power impulse magnetron sputtering discharges with tungsten target
Plasma Sources Science and Technology
2021
On how to measure the probabilities of target atom ionization and target ion back-attraction in high-power impulse magnetron sputtering
Journal of Applied Physics
On the role of ion potential energy in low energy HiPIMS deposition: An atomistic simulation
Surface and Coatings Technology
Tailoring interface alloying and magnetic properties in (111) Permalloy/Pt multilayers
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
Generating ultradense pair beams using 400
GeV/c
protons
Physical Review Research
Electron power absorption in radio frequency driven capacitively coupled chlorine discharge
Plasma Sources Science and Technology
HiPIMS optimization by using mixed high-power and low-power pulsing
Plasma Sources Science and Technology
Modeling of high power impulse magnetron sputtering discharges with graphite target
Plasma Sources Science and Technology
On the electron energy distribution function in the high power impulse magnetron sputtering discharge
Plasma Sources Science and Technology
Surface effects in a capacitive argon discharge in the intermediate pressure regime
Plasma Sources Science and Technology
Benchmarked and upgraded particle-in-cell simulations of a capacitive argon discharge at intermediate pressure: the role of metastable atoms
Plasma Sources Science and Technology
2020
Effect of substrate bias on microstructure of epitaxial film grown by HiPIMS: An atomistic simulation
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
Structural and photoluminescence study of TiO2 layer with self-assembled Si1−xGex nanoislands
Journal of Applied Physics
Study of the transition from self-organised to homogeneous plasma distribution in chromium HiPIMS discharge
Journal of Physics D: Applied Physics
Physics and technology of magnetron sputtering discharges
Plasma Sources Science and Technology
Sideways deposition rate and ionized flux fraction in dc and high power impulse magnetron sputtering
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
Optimizing the deposition rate and ionized flux fraction by tuning the pulse length in high power impulse magnetron sputtering
Plasma Sources Science and Technology
Tailored voltage waveforms applied to a capacitively coupled chlorine discharge
Plasma Sources Science and Technology
Optimization of HiPIMS discharges: The selection of pulse power, pulse length, gas pressure, and magnetic field strength
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
Electron power absorption dynamics in a low pressure radio frequency driven capacitively coupled discharge in oxygen
Journal of Applied Physics
Obtaining SiGe nanocrystallites between crystalline TiO2 layers by HiPIMS without annealing
Applied Surface Science
Collisionless electron cooling in a plasma thruster plume: experimental validation of a kinetic model
Plasma Sources Science and Technology
2019
Efficacy of annealing and fabrication parameters on photo-response of SiGe in TiO2 matrix
Nanotechnology
Electron heating mode transitions in a low pressure capacitively coupled oxygen discharge
Plasma Sources Science and Technology
Fabrication and characterization of Si1−xGex nanocrystals in as-grown and annealed structures: a comparative study
Beilstein Journal of Nanotechnology
Oblique angle deposition of nickel thin films by high-power impulse magnetron sputtering
Beilstein Journal of Nanotechnology
Effect of atomic ordering on the magnetic anisotropy of single crystal Ni80Fe20
AIP Advances
Enhanced photoconductivity of SiGe nanocrystals in SiO2 driven by mild annealing
Applied Surface Science
A global model study of low pressure high density CF4 discharge
Plasma Sources Science and Technology
The Effect of Magnetic Field Strength and Geometry on the Deposition Rate and Ionized Flux Fraction in the HiPIMS Discharge
Plasma
Enhanced photoconductivity of embedded SiGe nanoparticles by hydrogenation
Applied Surface Science
Fabrication and characterization of Si1-xGex nanocrystals in as-grown and annealed structures: A comparative study
2018
The role of surface quenching of the singlet delta molecule in a capacitively coupled oxygen discharge
Plasma Sources Science and Technology
Comparison of magnetic and structural properties of permalloy Ni80Fe20 grown by dc and high power impulse magnetron sputtering
Journal of Physics D: Applied Physics
The frequency dependence of the discharge properties in a capacitively coupled oxygen discharge
Plasma Sources Science and Technology
The Influence of Secondary Electron Emission and Electron Reflection on a Capacitively Coupled Oxygen Discharge
Atoms
On three different ways to quantify the degree of ionization in sputtering magnetrons
Plasma Sources Science and Technology
Growth of HfN thin films by reactive high power impulse magnetron sputtering
AIP Advances
2017
On electron heating in a low pressure capacitively coupled oxygen discharge
Journal of Applied Physics
Foundations of DC plasma sources
Plasma Sources Science and Technology
Preface to Special Topic: Reactive high power impulse magnetron sputtering
Journal of Applied Physics
Particle-balance models for pulsed sputtering magnetrons
Journal of Physics D: Applied Physics
A study of the oxygen dynamics in a reactive Ar/O2 high power impulse magnetron sputtering discharge using an ionization region model
Journal of Applied Physics
A unified treatment of self-sputtering, process gas recycling, and runaway for high power impulse sputtering magnetrons
Plasma Sources Science and Technology
On singlet metastable states, ion flux and ion energy in single and double frequency capacitively coupled oxygen discharges
Journal of Physics D: Applied Physics
Non-Maxwellian electron energy probability functions in the plume of a SPT-100 Hall thruster
Plasma Sources Science and Technology
Vanadium and vanadium nitride thin films grown by high power impulse magnetron sputtering
Journal of Physics D: Applied Physics
2016
The Role of Ohmic Heating in dc Magnetron Sputtering
Plasma Sources Science and Technology
An ionization region model of the reactive Ar/O2 high power impulse magnetron sputtering discharge
Plasma Sources Science and Technology
On reactive high power impulse magnetron sputtering
Plasma Physics and Controlled Fusion
The role of the metastable O2(b1\Sigma_g^+) and energy-dependent secondary electron emission yields in capacitively coupled oxygen discharges
Plasma Sources Science and Technology
2015
On the role of metastables in capacitively coupled oxygen discharges
Plasma Sources Science & Technology
On the formation and annihilation of the singlet molecular metastables in an oxygen discharge
Journal of Physics D-Applied Physics
Dual-frequency capacitively coupled chlorine discharge
Plasma Sources Science & Technology
The pressure dependence of the discharge properties in a capacitively coupled oxygen discharge
Journal of Applied Physics
Are the argon metastables important in high power impulse magnetron sputtering discharges?
Physics of Plasmas
A volume averaged global model study of the influence of the electron energy distribution and the wall material on an oxygen discharge
Journal of Physics D-Applied Physics
2014
Ion Energy and Angular Distributions in a Dual-Frequency Capacitively Coupled Chlorine Discharge
Ieee Transactions on Plasma Science
On the road to self-sputtering in high power impulse magnetron sputtering: particle balance and discharge characteristics
Plasma Sources Science & Technology
A current driven capacitively coupled chlorine discharge
Plasma Sources Science & Technology
2013
Rutile TiO 2 thin films grown by reactive high power impulse magnetron sputtering
Thin Solid Films
A benchmark study of a capacitively coupled oxygen discharge of the oopd1 particle-in-cell Monte Carlo code
Plasma Sources Science & Technology
The properties of TiN ultra-thin films grown on SiO2 substrate by reactive high power impulse magnetron sputtering under various growth angles
Thin Solid Films
Ultra-thin poly-crystalline TiN films grown by HiPIMS on MgO(100) - In-situ resistance study of the initial stage of growth
Thin Solid Films
On sheath energization and Ohmic heating in sputtering magnetrons
Plasma Sources Science and Technology
A particle-in-cell/Monte Carlo simulation of a capacitively coupled chlorine discharge
Plasma Sources Science & Technology
2012
Current-voltage-time characteristics of the reactive Ar/O-2 high power impulse magnetron sputtering discharge
Journal of Vacuum Science & Technology a
Gas rarefaction and the time evolution of long high-power impulse magnetron sputtering pulses
Plasma Sources Science and Technology
The influence of the electron energy distribution on the low pressure chlorine discharge
Vacuum
Nucleation and Resistivity of Ultrathin TiN Films Grown by High-Power Impulse Magnetron Sputtering
IEEE Electron Device Letters
Comparing resonant photon tunneling via cavity modes and Tamm plasmon polariton modes in metal-coated Bragg mirrors
Optics Letters
High power impulse magnetron sputtering discharge
Journal of Vacuum Science & Technology a
2011
Growth and in-situ electrical characterization of ultrathin epitaxial TiN films on MgO
Thin Solid Films
Morphology of TiN thin films grown on SiO(2) by reactive high power impulse magnetron sputtering
Thin Solid Films
Current-voltage-time characteristics of the reactive Ar/N(2) high power impulse magnetron sputtering discharge
Journal of Applied Physics
Ar(+) and Xe(+) Velocities near the Presheath-Sheath Boundary in an Ar/Xe Discharge
Physical Review Letters
An ionization region model for high-power impulse magnetron sputtering discharges
Plasma Sources Science & Technology
2010
The high power impulse magnetron sputtering discharge as an ionized physical vapor deposition tool
Vacuum
A global (volume averaged) model of a chlorine discharge
Plasma Sources Science & Technology
Low pressure hydrogen discharges diluted with argon explored using a global model
Plasma Sources Science & Technology
A global (volume averaged) model of a Cl(2)/Ar discharge: I. Continuous power
Journal of Physics D-Applied Physics
A global (volume averaged) model of a Cl(2)/Ar discharge: II. Pulsed power modulation
Journal of Physics D-Applied Physics
The low pressure Cl(2)/O(2) discharge and the role of ClO
Plasma Sources Science & Technology
Morphology of TiN thin films grown on MgO(001) by reactive dc magnetron sputtering
Journal of Vacuum Science & Technology A
Effect of hydrogenation on minority carrier lifetime in low-grade silicon
Physica Scripta
On the film density using high power impulse magnetron sputtering
Surface and Coatings Technology
2009
A global (volume averaged) model of a nitrogen discharge: II. Pulsed power modulation
Plasma Sources Science & Technology
On the electron energy in the high power impulse magnetron sputtering discharge
Journal of Applied Physics
A global (volume averaged) model of a nitrogen discharge: I. Steady state
Plasma Sources Science & Technology
In-situ electrical characterization of ultrathin TiN films grown by reactive dc magnetron sputtering on SiO(2)
Thin Solid Films
2008
Electrical resistivity and morphology of ultra thin Pt films grown by dc magnetron sputtering on SiO(2)
Proceedings of the 17th International Vacuum Congress/13th International Conference on Surface Science/International Conference on Nanoscience and Technology
Plasma parameters in a planar dc magnetron sputtering discharge of argon and krypton
Proceedings of the 17th International Vacuum Congress/13th International Conference on Surface Science/International Conference on Nanoscience and Technology
Ionized physical vapor deposition (IPVD): Magnetron sputtering discharges
Proceedings of the 17th International Vacuum Congress/13th International Conference on Surface Science/International Conference on Nanoscience and Technology
Growth, coalescence, and electrical resistivity of thin Pt films grown by dc magnetron sputtering on SiO(2)
Applied Surface Science
Ionization mechanism in the high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge
Proceedings of the 17th International Vacuum Congress/13th International Conference on Surface Science/International Conference on Nanoscience and Technology
Digital smoothing of the Langmuir probe I-V characteristic
Review of Scientific Instruments
2007
Oxygen discharges diluted with argon: dissociation processes
Plasma Sources Science & Technology
A magnetron sputtering system for the preparation of patterned thin films and in situ thin film electrical resistance measurements
Review of Scientific Instruments
2006
In situ resistivity measurements during growth of ultra-thin Cr0.7Mo0.3
Thin Solid Films
The ion energy distributions and ion flux composition from a high power impulse magnetron sputtering discharge
Thin Solid Films
Improved volume-averaged model for steady and pulsed-power electronegative discharges
Journal of Vacuum Science & Technology A
Ionized physical vapor deposition (IPVD): A review of technology and applications
Thin Solid Films
2005
Spatial electron density distribution in a high-power pulsed magnetron discharge
IEEEE Transactions on Plasma Science
Ion-assisted physical vapor deposition for enhanced film properties on nonflat surfaces
Journal of Vacuum Science & Technology A
Ion-acoustic solitary waves in a high power pulsed magnetron sputtering discharge
Journal of Physics D-Applied Physics
Plasma dynamics in a highly ionized pulsed magnetron discharge
Plasma Sources Science & Technology
2004
Recombination and detachment in oxygen discharges: the role of metastable oxygen molecules
Journal of Physics D-Applied Physics
Lithium-diffused and annealed GaAs: An admittance spectroscopy study
Physical Review B
Preparation and characterization of magnetron sputtered, ultra-thin Cr0.63Mo0.37 films on MgO
Journal of Vacuum Science & Technology A
2003
Frequency-dependent conductivity in lithium-diffused and annealed GaAs
Physica B-Condensed Matter
Impurity band in lithium-diffused and annealed GaAs: Conductivity and Hall effect measurements
Physical Review B
2002
Global model of plasma chemistry in a low-pressure O(2)/F(2) discharge
Journal of Physics D-Applied Physics
Hopping conduction in lithium diffused and annealed GaAs
2002 12th International Conference on Semiconducting & Insulating Materials
Potential fluctuations and site switching in Si-doped GaAs studied by photoluminescence
Physica Scripta
Spatial and temporal behavior of the plasma parameters in a pulsed magnetron discharge
Surface & Coatings Technology
2001
The effect of Si site-switching in GaAs on electrical properties and potential fluctuation
Physica B: Condensed Matter
On the effect of the electron energy distribution on the plasma parameters of an argon discharge: a global (volume-averaged) model study
Plasma Sources Science & Technology
Evolution of the electron energy distribution and plasma parameters in a pulsed magnetron discharge
Applied Physics Letters
Electronegativity of low-pressure high-density oxygen discharges
Journal of Physics D-Applied Physics
2000
Direct observation of hydrogen passivation of nitrogen-related energy levels in ZnSe and ZnSxSe1-x grown by MBE
Journal of Crystal Growth
On the plasma parameters of a planar inductive oxygen discharge
Journal of Physics D-Applied Physics
A reply to a comment on: 'On the plasma parameters of a planar inductive oxygen discharge
Journal of Physics D-Applied Physics
1999
Experimental studies of O-2/Ar plasma in a planar inductive discharge
Plasma Sources Science & Technology
Hydrogen passivation of Al(x)Ga(1-x)As/GaAs studied by surface photovoltage spectroscopy
Physica B-Condensed Matter
Hydrogenation of polysilicon thin-film transistor in a planar inductive H-2/Ar discharge
Ieee Electron Device Letters
Ion energy distribution in H-2/Ar plasma in a planar inductive discharge
Plasma Sources Science & Technology
Lithium-gold-related complexes in p-type crystalline silicon
Physica B-Condensed Matter
The ion energy distribution in a planar inductive oxygen discharge
Journal of Physics D-Applied Physics
Hydrogen passivation of nitrogen-related energy levels in ZnSe and ZnSSe grown by MBE
Physica B-Condensed Matter
Effect of lithium diffusion on the native defects in GaAs studied by positron annihilation spectroscopy
Physica B-Condensed Matter
1998
Model and measurements for a planar inductive oxygen discharge
Plasma Sources Science & Technology
Magnetic induction and plasma impedance in a planar inductive discharge
Plasma Sources Science & Technology
Experimental studies of H-2/Ar plasma in a planar inductive discharge
Plasma Sources Science & Technology
1997
Magnetic induction and plasma impedance in a cylindrical inductive discharge
Plasma Sources Science & Technology
1992
ELECTRICAL AND OPTICAL-PROPERTIES OF GAAS DOPED WITH LI
Proceedings of the 16th International Conference on Defects in Semiconductors, Pts 1-3
Keywords for Specialisation:
Plasma physics
Discharge physics
Magnetron sputtering discharges
Thin films
Electrical properties of materials
Capacitively coupled discharges
HiPIMS
Particle-in-cell
Semiconductors and semiconductor devices
Háskólinn
Fræðasvið og deildir
Félagsvísindasvið
Heilbrigðisvísindasvið
Rannsóknir
Doktorsnám við Heilbrigðisvísindasvið
Um sviðið
Starfsfólk Heilbrigðisvísindasviðs
Stjórnun Heilbrigðisvísindasviðs
Viðburðir
Hafðu samband
Samstarf
Þjónusta
Heilbrigðisþjónusta
Nemendaþjónusta
Rannsóknaþjónusta
Sviðsskrifstofa
Hugvísindasvið
Rannsóknir
Doktorsnám
Rannsóknastofnanir Hugvísindasviðs
Um sviðið
Algengar spurningar
Alþjóðlegt samstarf
Starfsfólk Hugvísindasviðs
Stundatöflur
Þjónusta
Námsaðstaða
Skrifstofa
Menntavísindasvið
Rannsóknir
Rannsóknir á sviðinu
Útgáfa
Doktorsnám
Um sviðið
Stjórn og starfsfólk
Lög og reglur
Sagan
Viðburðir
Hafðu samband
Þjónusta
Verkfræði- og náttúruvísindasvið
Rannsóknir
Um sviðið
Skrifstofa og starfsfólk Verkfræði- og náttúruvísindasviðs
Hafðu samband
Þjónusta
Húsnæði og aðstaða
Nemendaþjónusta VoN
Deildir frá A-Ö
Deild faggreinakennslu
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknarverkefni
Um deildina
Stjórn og starfsfólk
Deild heilsueflingar, íþrótta og tómstunda
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknarverkefni
Um deildina
Deild kennslu- og menntunarfræði
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknarverkefni
Um deildina
Stjórn og starfsfólk
Deild menntunar og margbreytileika
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknarverkefni
Um deildina
Stjórn og starfsfólk
Félagsfræði-, mannfræði- og þjóðfræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Viðbótardiplóma
Fjarnám
Inntökuskilyrði
Stundatöflur
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknir
Félagsvísindastofnun
Lokaverkefni
Þjóðarspegillinn
Um deildina
Stjórn og starfsfólk
Samstarf
Kynningarefni
Hafðu samband
Félagsráðgjafardeild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Viðbótardiplómanám
Stundatöflur
Móttaka nýnema
Umsókn
Rannsóknir
Doktorsnám
Félagsvísindastofnun
Rannsóknir kennara
Lokaverkefni
Um deildina
Stjórn og starfsfólk
Starfsfólk Félagsráðgjafardeildar
Samstarf
Hafðu samband
Námsmat og reglur
Guðfræði- og trúarbragðafræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Skiptinám
Rannsóknir
Guðfræðistofnun
Doktorsnám
Hugvísindaþing
Ritröð Guðfræðistofnunar
Um deildina
Starfsfólk Guðfræði- og trúarbragðafræðideildar
Húsnæði og aðstaða
Alþjóðlegt samstarf
Kennslustefna Guðfræði- og trúarbragðafræðideildar
Hagfræðideild
Nám
Framhaldsnám
Inntökuskilyrði
Upplýsingar fyrir nýnema
Umsókn
Rannsóknir
Doktorsnám
Hagfræðistofnun
Tímarit um viðskipti og efnahagsmál
Um deildina
Samstarf
Kynningarefni
Hafðu samband
Hjúkrunarfræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Stundatöflur
Umsókn
Rannsóknir
Fræðasvið
Rannsóknasjóður Ingibjargar R. Magnúsdóttur
Rannsóknir við deildina
Um deildina
Saga
Samstarf
Starfsfólk
Stjórnun
Hafðu samband
Iðnaðarverkfræði- vélaverkfræði- og tölvunarfræðideild
Nám
Grunnnám
Umsókn
Rannsóknir
Lokaverkefni í Skemmu
Um deildina
Starfsfólk
Hafðu samband
Íslensku- og menningardeild
Nám
Umsókn
Rannsóknir
Bókmennta- og listfræðastofnun
Málvísindastofnun Háskóla Íslands
Doktorsnám
Hugvísindaþing
Um deildina
Starfsfólk
Jarðvísindadeild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Lokaverkefni í Skemmu
Um deildina
Hafðu samband
Lagadeild
Nám
Grunnnám
Meistaranám
Umsókn
Upplýsingar fyrir nýnema
Algengar spurningar
Stundatöflur
Kennsluskrá
Rannsóknir
Doktorsnám
Lagastofnun Háskóla Íslands
Rannsóknastofnun Ármanns Snævarr um fjölskyldumálefni
Mannréttindastofnun Háskóla Íslands
Um deildina
Stjórn og starfsfólk
Samstarf
Bókasafn
Sagan
Kynningarefni
Lög og reglur Lagadeildar
Hafðu samband
Líf- og umhverfisvísindadeild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Lokaverkefni í Skemmu
Um deildina
Starfsfólk
Hafðu samband
Lyfjafræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Stundatöflur
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknir við deildina
Rannsóknarstofnun um lyfjamál
Um deildina
Starfsfólk
Skrifstofur og stjórnun
Viðurkenningar og styrkir
Kynningarefni
Hafðu samband
Samstarf
Læknadeild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Inntökupróf
Stundatöflur
Umsókn
Rannsóknir
Stofnanir og setur
Fræðasvið í læknisfræði
Rannsóknarverkefni
Um deildina
Starfsfólk
Stjórnun
Samstarf
Aðstaða
Matvæla- og næringarfræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Stundatöflur
Umsókn
Umsagnir nemenda
Rannsóknir
Rannsóknastofnanir
Rannsóknarverkefni
MoN dagur
Um deildina
Starfsfólk
Skrifstofa og stjórn
Samstarf
Aðstaða
Kynningarefni
Hafðu samband
Mála- og menningardeild
Nám
Umsókn
Rannsóknir
Konfúsíusarstofnunin Norðurljós
Stofnun Vigdísar Finnbogadóttur
Doktorsnám
Hugvísindaþing
Um deildina
Starfsfólk
Tungumálamiðstöð
Rafmagns- og tölvuverkfræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Doktorsnám
Lokaverkefni í Skemmu
Um deildina
Starfsfólk
Hafðu samband
Raunvísindadeild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Raunvísindastofnun
Stærðfræðistofa Raunvísindastofnunar
Lokaverkefni í Skemmu
Um deildina
Starfsfólk
Hafðu samband
Sagnfræði- og heimspekideild
Nám
Umsókn
Rannsóknir
Heimspekistofnun
Sagnfræðistofnun
Siðfræðistofnun
Doktorsnám
Hugvísindaþing
Um deildina
Starfsfólk
Sálfræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Inntökuskilyrði
Stundatöflur
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknir við deildina
Lokaverkefni nemenda
Um deildina
Stjórnun og starfsfólk
Samstarf
Sálfræðiráðgjöf háskólanema
Kynningarefni og sagan
Algengar spurningar
Stjórnmálafræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Diplómanám
Stundatöflur
Fjarnám
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknarstofur og stofnanir
Um deildina
Stjórn og starfsfólk
Samstarf
Lög og reglur
Kynningarefni
Hafðu samband
Tannlæknadeild
Nám
Tanntæknanám
Stundatöflur
Umsókn
Rannsóknir
Rannsóknir við deildina
Tannlækningastofnun
Um deildina
Starfsfólk
Skrifstofur og stjórnun
Aðstaða
Kynningarefni
Sagan
Tannlæknaþjónusta
Hafðu samband
Umhverfis- og byggingarverkfræðideild
Nám
Grunnnám
Framhaldsnám
Umsókn
Rannsóknir
Lokaverkefni í Skemmu
Um deildina
Starfsfólk
Hafðu samband
Viðskiptafræðideild
Stjórnskipulag
Rektor
Aðstoðarrektorar
Um aðstoðarrektora
Aðstoðarrektor vísinda
Aðstoðarrektor kennslumála og þróunar
Skrifstofa rektors
Skipurit
Háskólaráð
Um háskólaráð
Nefndir háskólaráðs
Fundargerðir háskólaráðs
Nefndir háskólaráðs
Háskólaþing
Lög og reglur
Lög og reglur HÍ
Leita að lögum og reglum
Um ábyrgð á tölvupósti
Öryggi og persónuvernd á vef Háskóla Íslands
Innri endurskoðun
Sameiginleg stjórnsýsla
Alþjóðasvið
Fjármálasvið
Fjármálasvið
Reikningshald
Ferðaheimildir
Framkvæmda- og tæknisvið
Kennslusvið
Markaðs- og samskiptasvið
Mannauðssvið
Upplýsingatæknisvið
Vísinda- og nýsköpunarsvið
Við höfum áhrif
Mannauður
Laus störf
Erlent starfsfólk
Starfsfólk
Að vinna í HÍ
Starfsmannastefna
Fjölskyldustefna Háskóla Íslands
Stefna og markmið HÍ
Stefna Háskóla Íslands
Gildi Háskóla Íslands
Önnur stefnuskjöl og áætlanir
Gæðastefna
Jafnrétti
Jafnréttisáætlun
Jafnréttismál
Jafnrétti í HÍ
Málstefna
Opinn aðgangur
Stefna um opinn aðgang
Persónuvernd
Rafræn vöktun
Siðareglur
Skjalastefna
Starfsmannastefna
Stefna um opinn aðgang
Opinn aðgangur
Upplýsingaöryggisstefna
Öryggi og vinnuvernd
Jafnrétti í HÍ
Sjálfbærni í HÍ
Kynningarefni
Um HÍ
Fréttir
HÍ í tölum
Kynningarbæklingar
Myndasöfn
Tímarit HÍ
Árbók HÍ
Miðlun
Leit að fræðimönnum í HÍ
Fyrir fjölmiðla
Hönnunarstaðall
Vefur HÍ
Húsnæði og aðstaða
Háskólabyggingar
Útleiga á stofum
Húsreglur
Listir
Háskólatónleikar
Listasafn
Um skólann
Gæðamál
Gæðakerfi og gæðamat
Viðmið og kröfur um gæði doktorsnáms við HÍ
Viðmið og kröfur um gæði meistaranáms við HÍ
Ársreikningar
Sjálfbærni og umhverfi
Saga
Aldarsaga Háskóla Íslands
Háskóli Íslands 75 ára
Byggingarsaga
Heiðursdoktorar
Eyðublöð
Samstarf
Háskólasamstarf
Siðanefnd háskólanna um vísindarannsóknir
Samstarfsnefnd háskólastigsins
Samstarf opinberu háskólanna
Innlent samstarf
Innviðir á vegvísi
Frá sameindum til sniðlækninga: heildstæð aðstaða fyrir nútíma lífvísindi
Efnagreining - frá frumefnum til lífsameinda
Efnagreining - tækjalisti
Efnisvísinda- og efnisverkfræðisetur
EPOS Ísland
Íslenskir rafrænir innviðir
Miðstöð stafrænna hugvísinda og lista
Samstarf og samningar
Alþjóðlegt samstarf
Alþjóðasvið
Samstarfsskólar um nemendaskipti
Aurora
Um Aurora
Fyrir nemendur
Fyrir starfsfólk
Aurora tækifæri
Tengsl við atvinnulífið
Vísindagarðar
Atvinnumiðlun stúdenta - Tengslatorg
Samfélagsverkefni
Samfélagsverkefni HÍ
Barnamenningarhátíð
Biophilia
FLL- tækni og hönnunarkeppnin
Fjársjóður framtíðar
Háskólalestin
Háskóli unga fólksins
Með fróðleik í fararnesti
Nýsköpunarkeppni grunnskólanna
Ungir vísindamenn
Vísindasmiðjan
Vísindavaka
Vísindi á mannamáli
Yfirlit - Samfélagsverkefni HÍ
Samfélagsverkefni nemenda
Ástráður forvarnarstarf læknanema
Bangsaspítalinn
Hugrún - geðfræðslufélag
Lögfræðiaðstoð Orators
Sálfræðiráðgjöf háskólanema
Tannlæknaþjónusta
Samfélagsverkefni yfirlit
Samfélagsverkefni nemenda
Hlaðvörp tengd HÍ
Háskólinn og heimsmarkmiðin
Heimsmarkmiðin
1. Engin fátækt
2. Ekkert hungur
3. Heilsa og vellíðan
4. Menntun fyrir alla
5. Jafnrétti kynjanna
6. Hreint vatn og hreinlætisaðstaða
7. Sjálfbær orka
8. Góð atvinna og hagvöxtur
9. Nýsköpun og uppbygging
10. Aukinn jöfnuður
11. Sjálfbærar borgir og samfélög
12. Ábyrg neysla og framleiðsla
13. Aðgerðir í loftslagsmálum
14. Líf í vatni
15. Líf á landi
16. Friður og réttlæti
17. Samvinna um markmiðin
Sprettur
Háskólavinir
Háskólavinir
Fyrrverandi starfsfólk
Vísindastarf
Vísindi og nýsköpun
Nýsköpun
Framtíð nýsköpunar
Framtíð nýsköpunar
Dagskrá ráðstefnunnar
Fyrirlesarar
Sprotafyrirtæki HÍ
Stuðningur
Vísinda- og nýsköpunarsvið
Við höfum áhrif
Miðstöð framhaldsnáms
Styrkir og sjóðir við HÍ
Rannsóknastofnanir og setur
Rannsóknastofnanir
Rannsóknasetur
Austurland
Breiðdalsvík
Hornafjörður
Húsavík
Norðurland vestra
Snæfellsnes
Strandir
Suðurland
Suðurnes
Vestfirðir
Vestmannaeyjar
Þingeyjarsveit
Rannsóknasamstarf
ROCS rannsóknastofnunin
Stýrihópur HÍ og LSH
COVID rannsóknir og fræði
Nám
Námsframboð
Leita að námi
Grunnnám A-Ö
Fjarnám
Framhaldsnám A-Ö
Doktorsnám A-Ö
Þverfræðilegt nám
Annað nám
Skiptinám
Umsókn um skiptinám
Áfangastaðir
Styrkir og fjármögnun
Skilyrði fyrir skiptinámi
Skiptinámsferlið - Skref fyrir skref
Hvers vegna skiptinám?
Hvað segja skiptinemar?
Spurningar og svör um skiptinám
Starfsþjálfun erlendis
Endurmenntun HÍ
Gestanám - opinberir háskólar
Stutt námsdvöl erlendis
Sækja um nám
Velkomin í HÍ
Umsóknarsíða
Staða umsóknar
Fylgigögn með umsókn
Samskiptagátt
Umsókn um grunnnám
Aðalgrein og aukagrein í grunnnámi
Umsókn um framhaldsnám
Námsupplýsingar
Kennsluskrá
Inntökuskilyrði
Skrásetningargjöld
Mat á fyrra námi
Einingamat og einkunnir
Skipulag náms
Kennslualmanak
Fjarnám
Próf
Símenntunarmiðstöðvar
Brautskráning
Doktorsvarnir
Nýnemar
Stundatöflur
Nýnemar
Aðgangur að innri vef og tölvukerfi
Félagslíf
Nýnemakynningar
Stuðningur
Nemendaráðgjöf
Nemendaráðgjöf
Nemendaráðgjöf HÍ
Námsráðgjöf
Starfsráðgjöf
Tengslatorg - atvinnutækifæri
Námskeið og fyrirlestrar
Úrræði í námi og prófum
Nemendaráðgjöf HÍ
Á ég rétt á aðstoð?
Sérúrræði í prófum
Fyrir kennara
Próf
Sálfræðiþjónusta
Nemendaráðgjöf HÍ
Sálfræðiþjónusta Háskóla Íslands
Fleiri stuðningsúrræði
Slökun og núvitund
Geðheilbrigði - fræðsluefni
Nemendaskrá - Umsóknir
Þjónustuborð
Stúdentaráð
Þjónusta
Bókasöfn og bóksala
Tölvuþjónusta
Ritver
Félagsstofnun stúdenta
Tungumálamiðstöð
Húsnæði og aðstaða
Háskólabyggingar
Útleiga á stofum
Húsreglur
Aðalbygging
Askja
Árnagarður
Eirberg
Endurmenntun við Dunhaga
Gimli
Hagi
Háskólabíó
Háskólatorg
Íþróttahús
Laugarvatn
Læknagarður
Lögberg
Neshagi 16
Nýi garður
Oddi
Raunvísindastofnun
Skipholt 37
Stakkahlíð
Setberg
Stapi
Tæknigarður
Veröld - hús Vigdísar
VR-I
VR-II
VR-III
Lesrými og tölvuver
Íþróttahús
Lífið í HÍ
Matsala og kaffistofur
Stúdentaíbúðir
Leikskólar
Samgöngur